鉛防護(hù)門廠家介紹潛在照射的概念

    潛在照射(potential exposure)是指有一定把握預(yù)期不會(huì)受到，但可能會(huì)因源的事故或某種具有偶然性質(zhì)的事件或事件序列(包括設(shè)備故障和操作錯(cuò)誤)所引起的照射.而正常照射則是在設(shè)施或源的正常運(yùn)行條件下.包括在可能發(fā)生的能夠保持在控制條件之下的小的意外事件情況下受到或預(yù)計(jì)會(huì)受到的照射.

   “潛在照射”是ICRP 1990年60號(hào)出版物中正式提出的。隨后又專門發(fā)布64號(hào)《潛在照射的防護(hù):概念框架》(1993年)和76號(hào)《潛在照射的防護(hù):對(duì)所選擇輻射源的應(yīng)用》(1996年)等.這些出版物和參考資料對(duì)控制潛在照射的必要性、理論和方法都作了詳細(xì)的分析與介紹，廣泛論述了對(duì)放射源安全的控制，特別是建議對(duì)輻照裝置的危險(xiǎn)控制給予高度重視。不久.IAEA牽頭聯(lián)合六個(gè)國(guó)際組織批準(zhǔn)并聯(lián)合發(fā)布了《國(guó)際電離輻射防護(hù)和輻射源安全基本安全標(biāo)準(zhǔn)》(IAEA安全叢書115號(hào)，1996年版)，劃時(shí)代地把以往的輻射防護(hù)擴(kuò)展為輻射防護(hù)和輻射源安全兩部分。其中輻射源安全的核心就是潛在照射的防護(hù)。對(duì)此很快引起了國(guó)內(nèi)防護(hù)專家重視，第二年就發(fā)表文章，并翻譯出版了ICRP和IAEA眾多資料。對(duì)“潛在照射”框架概念、表現(xiàn)形式、存在問(wèn)題和預(yù)防措施等進(jìn)行介紹和探討中，主要集中輻照裝置的安全措施和小型放射源的管理.對(duì)輻照裝置指出，對(duì)潛在照射的控制是運(yùn)行位和工作人員時(shí)刻不能掉以輕心的工作。